公开(公告)号：US20140299466A1

公开(公告)日：2014-10-09

申请号：US14269836

申请日：2014-05-05

申请人： Prabhat Kumar ,  Charles Wood ,  Gary Rozak ,  Steven A. Miller ,  Glen Zeman ,  Rong-Chein Richard Wu

发明人： Prabhat Kumar ,  Charles Wood ,  Gary Rozak ,  Steven A. Miller ,  Glen Zeman ,  Rong-Chein Richard Wu

IPC分类号： C23C14/34

CPC分类号： C23C14/3414 ,  B22F3/1017 ,  B22F2003/241 ,  B22F2003/247 ,  B22F2998/10 ,  C22C1/045 ,  B22F3/04 ,  B22F3/24

摘要： The present invention is directed to a process for producing high density, refractory metal products via a press/sintering process. The invention is also directed to a process for producing a sputtering target and to the sputtering target so produced.

摘要翻译： 本发明涉及一种通过压制/烧结方法生产高密度难熔金属产品的方法。 本发明还涉及一种用于制造溅射靶和如此制造的溅射靶的方法。

公开(公告)号：US20080171215A1

公开(公告)日：2008-07-17

申请号：US11653816

申请日：2007-01-16

申请人： Prabhat Kumar ,  Charles Wood ,  Gary Rozak ,  Steven A. Miller ,  Glen Zeman ,  Rong-Chein Richard Wu

发明人： Prabhat Kumar ,  Charles Wood ,  Gary Rozak ,  Steven A. Miller ,  Glen Zeman ,  Rong-Chein Richard Wu

IPC分类号： B32B15/00 ,  B22F3/24 ,  B22F3/12

CPC分类号： C23C14/3414 ,  B22F3/1017 ,  B22F2003/241 ,  B22F2003/247 ,  B22F2998/10 ,  C22C1/045 ,  B22F3/04 ,  B22F3/24

摘要： The present invention is directed to a process for producing high density, refractory metal products via a press/sintering process. The invention is also directed to a process for producing a sputtering target and to the sputtering target so produced.

摘要翻译： 本发明涉及一种通过压制/烧结方法生产高密度难熔金属产品的方法。 本发明还涉及一种用于制造溅射靶和如此制造的溅射靶的方法。

公开(公告)号：US08784729B2

公开(公告)日：2014-07-22

申请号：US11653816

申请日：2007-01-16

申请人： Prabhat Kumar ,  Charles Wood ,  Gary Rozak ,  Steven A. Miller ,  Glen Zeman ,  Rong-Chein Richard Wu

发明人： Prabhat Kumar ,  Charles Wood ,  Gary Rozak ,  Steven A. Miller ,  Glen Zeman ,  Rong-Chein Richard Wu

IPC分类号： B22F1/00 ,  B22F1/02

CPC分类号： C23C14/3414 ,  B22F3/1017 ,  B22F2003/241 ,  B22F2003/247 ,  B22F2998/10 ,  C22C1/045 ,  B22F3/04 ,  B22F3/24

摘要： The present invention is directed to a process for producing high density, refractory metal products via a press/sintering process. The invention is also directed to a process for producing a sputtering target and to the sputtering target so produced.

摘要翻译： 本发明涉及一种通过压制/烧结方法生产高密度难熔金属产品的方法。 本发明还涉及一种用于制造溅射靶和如此制造的溅射靶的方法。