公开(公告)号：US07253905B2

公开(公告)日：2007-08-07

申请号：US10718484

申请日：2003-11-20

申请人： Dirk L. Basting ,  Kai Schmidt ,  Holger Bald ,  Christian Schramm

发明人： Dirk L. Basting ,  Kai Schmidt ,  Holger Bald ,  Christian Schramm

IPC分类号： G01B9/02

CPC分类号： H04N17/002 ,  G03F7/70425 ,  G03F7/70483 ,  H04N1/401 ,  H04N5/3653

摘要： A process for the determination and correction of laser induced damages of the optical and electronic components within the beam path of a monitor module of a 193 nm excimer lasers is provided herein. Especially state of the art detectors like CCD cameras degrade under UV radiation. With a special correction of the sensitivity of each camera pixel this problem can be solved.

摘要翻译： 本文提供了用于确定和校正193nm准分子激光器的监视器模块的光束和电子部件的光学和电子部件的损伤的过程。 特别是像CCD照相机这样的先进的检测器在UV辐射下降解。 通过对每个摄像机像素的灵敏度进行特殊校正，可以解决这个问题。