公开(公告)号：US20060103983A1

公开(公告)日：2006-05-18

申请号：US10990926

申请日：2004-11-17

申请人： Robert Fontana ,  Neil Robertson ,  Huey-Min Tzeng

发明人： Robert Fontana ,  Neil Robertson ,  Huey-Min Tzeng

IPC分类号： G11B5/41 ,  G11B5/10 ,  G11B5/012 ,  G11B17/00 ,  G11B5/127

CPC分类号： G11B5/3163 ,  G11B5/3166 ,  G11B5/3169 ,  G11B5/332 ,  G11B5/3906 ,  G11B5/40

摘要： An apparatus and method for lapping and fabricating a read/write head is described. The lapping method includes performing a first lapping process on a structure having the read/write head fabricated therein. The first lapping process is for reducing a first resistive region. The first resistive region is located proximal to a surface of the structure. The first lapping process is for achieving a first lapping benchmark. The lapping method further includes performing a second lapping process on a second resistive region. The second lapping process laps at a rate lesser than the first lapping process. The second lapping process is for achieving a second lapping benchmark. The second resistive region is interposed between the first resistive region and the read/write head. The second resistive region has a different resistive value than the second resistive region.

摘要翻译： 描述了用于研磨和制造读/写头的装置和方法。 研磨方法包括对其中制造读/写头的结构执行第一研磨处理。 第一次研磨工艺用于减少第一电阻区域。 第一电阻区域位于结构的表面附近。 第一个研磨过程是实现第一次研磨基准。 研磨方法还包括在第二电阻区域上进行第二研磨处理。 第二次研磨过程以比第一次研磨过程低的速度进行。 第二次研磨过程是实现第二次研磨基准。 第二电阻区域介于第一电阻区域和读/写头之间。 第二电阻区域具有与第二电阻区域不同的电阻值。