公开(公告)号：US08416509B2

公开(公告)日：2013-04-09

申请号：US12641805

申请日：2009-12-18

申请人： HunJung Yi ,  Jae-Won Hahn ,  Seungki Chae ,  Chang-Hoon Oh

发明人： HunJung Yi ,  Jae-Won Hahn ,  Seungki Chae ,  Chang-Hoon Oh

IPC分类号： G02B9/00

CPC分类号： G02B21/0028 ,  G01J3/02 ,  G01J3/0208 ,  G01J3/0229 ,  G01J3/0262 ,  G01J3/0289 ,  G01J3/443

摘要： An optical apparatus for plasma includes a light collection lens provided to receive optical emission spectrum from plasma, a first aperture stop disposed between the light collection lens and the plasma to block out-focused light, a second aperture stop disposed between the light collection lens and an imaging area of the light collection lens to block in-focused light, and a pinhole disposed at the imaging area of the light collection lens to limit depth of focus.

摘要翻译： 一种用于等离子体的光学装置，包括：用于接收来自等离子体的光发射光谱的光收集透镜;设置在光采集透镜和等离子体之间的第一孔径光阑，以阻挡向外聚焦的光;第二孔径光阑设置在光收集透镜和 聚光透镜的成像区域以遮挡聚焦光，以及设置在聚光透镜的成像区域的针孔，以限制聚焦深度。

公开(公告)号：US20110222058A1

公开(公告)日：2011-09-15

申请号：US13048387

申请日：2011-03-15

申请人： Se-Yeon KIM ,  HunJung Yi

发明人： Se-Yeon KIM ,  HunJung Yi

IPC分类号： G01J3/28

CPC分类号： G01J3/443 ,  H01J37/32834 ,  H01J37/32935 ,  H01J37/32972

摘要： Provided are a process monitoring device for monitoring semiconductor device manufacturing processes, a semiconductor process apparatus including the same, and a process monitoring method thereof. The process monitoring device generates plasma from the exhaust gas of the process chamber using DBD-type electrodes and analyzes a spectrum of emission light from the plasma, thereby monitoring the semiconductor manufacturing process performed in the process chamber.

摘要翻译： 提供了一种用于监控半导体器件制造工艺的工艺监控装置，包括该工艺监测装置的半导体处理装置及其工艺监视方法。 过程监控装置使用DBD型电极从处理室的排气产生等离子体，并分析来自等离子体的发射光谱，从而监测在处理室中执行的半导体制造过程。

公开(公告)号：US20100200767A1

公开(公告)日：2010-08-12

申请号：US12641805

申请日：2009-12-18

申请人： HunJung YI ,  Jae-Won HAHN ,  Seungki CHAE ,  Chang-Hoon OH

发明人： HunJung YI ,  Jae-Won HAHN ,  Seungki CHAE ,  Chang-Hoon OH

IPC分类号： H01J27/00 ,  G02B3/00 ,  G01J3/28 ,  G01B11/14

CPC分类号： G02B21/0028 ,  G01J3/02 ,  G01J3/0208 ,  G01J3/0229 ,  G01J3/0262 ,  G01J3/0289 ,  G01J3/443

摘要： An optical apparatus for plasma includes a light collection lens provided to receive optical emission spectrum from plasma, a first aperture stop disposed between the light collection lens and the plasma to block out-focused light, a second aperture stop disposed between the light collection lens and an imaging area of the light collection lens to block in-focused light, and a pinhole disposed at the imaging area of the light collection lens to limit depth of focus.

摘要翻译： 一种用于等离子体的光学装置，包括：用于接收来自等离子体的光发射光谱的光收集透镜;设置在光采集透镜和等离子体之间的第一孔径光阑，以阻挡向外聚焦的光;第二孔径光阑设置在光收集透镜和 聚光透镜的成像区域以遮挡聚焦光，以及设置在聚光透镜的成像区域的针孔，以限制聚焦深度。