公开(公告)号：US20070146658A1

公开(公告)日：2007-06-28

申请号：US11318055

申请日：2005-12-27

申请人： Hubert Van Mierlo ,  Gert-Jan Heerens ,  Hans Meiling ,  Antonius Gerardus Maria Bastein ,  Jacques Cor Der Donck

发明人： Hubert Van Mierlo ,  Gert-Jan Heerens ,  Hans Meiling ,  Antonius Gerardus Maria Bastein ,  Jacques Cor Der Donck

IPC分类号： G03B27/52

CPC分类号： G03F7/70925 ,  G01N21/94 ,  G03F7/7085 ,  G03F7/70866 ,  G03F7/70916

摘要： A lithographic apparatus is disclosed. The apparatus includes a patterning device that is capable of imparting a radiation beam with a pattern in its cross-section to form a patterned radiation beam. The apparatus also includes a cleaning unit arranged to clean the patterning device in-situ, and/or a detection unit arranged to detect contamination of the patterning device in-situ.

摘要翻译： 公开了一种光刻设备。 该装置包括能够在其横截面中赋予具有图案的辐射束以形成图案化的辐射束的图案形成装置。 该设备还包括布置成原位清洁图案形成装置的清洁单元和/或被布置成现场检测图案形成装置的污染物的检测单元。