公开(公告)号：US07783669B2

公开(公告)日：2010-08-24

申请号：US11580570

申请日：2006-10-12

申请人： Hong Qiu ,  Junwei Bao ,  Wei Liu ,  Jeffrey Alexander Chard ,  Miao Liu ,  Gang He ,  Hemalatha Erva ,  Vi Vuong

发明人： Hong Qiu ,  Junwei Bao ,  Wei Liu ,  Jeffrey Alexander Chard ,  Miao Liu ,  Gang He ,  Hemalatha Erva ,  Vi Vuong

IPC分类号： G06Q50/00

CPC分类号： G01B11/24 ,  Y10S707/953

摘要： To manage data flow in generating profile models for use in optical metrology, a project data object is created. A first profile model data object is created. The first profile model data object corresponds to a first profile model defined using profile parameters. A version number is associated with the first profile model data object. The first profile model data object is linked with the project data object. At least a second profile model data object is created. The second profile model data object corresponds to a second profile model defined using profile parameters. The first and second profile models are different. Another version number is associated with the second profile model data object. The second profile model data object is linked with the project data object. The project data object, the first profile model data object, and the second profile model data object are stored. The version numbers associated with the first profile model data object and the second profile model data object are stored. The link between the first profile model data object and the project data object is stored. The link between the second profile model data object and the project data object is stored.

摘要翻译： 为了管理生成用于光学测量的轮廓模型中的数据流，创建了一个项目数据对象。 创建第一个配置文件模型数据对象。 第一个轮廓模型数据对象对应于使用轮廓参数定义的第一轮廓模型。 版本号与第一个轮廓模型数据对象相关联。 第一个配置文件模型数据对象与项目数据对象链接。 至少创建一个第二个轮廓模型数据对象。 第二轮廓模型数据对象对应于使用轮廓参数定义的第二轮廓模型。 第一个和第二个轮廓模型是不同的。 另一个版本号与第二个配置文件模型数据对象相关联。 第二个配置文件模型数据对象与项目数据对象链接。 存储项目数据对象，第一个轮廓模型数据对象和第二个轮廓模型数据对象。 存储与第一轮廓模型数据对象和第二轮廓模型数据对象相关联的版本号。 存储第一轮廓模型数据对象与项目数据对象之间的链接。 存储第二轮廓模型数据对象与项目数据对象之间的链接。

公开(公告)号：US07515283B2

公开(公告)日：2009-04-07

申请号：US11485048

申请日：2006-07-11

申请人： Tri Thanh Khuong ,  Junwei Bao ,  Jeffrey Alexander Chard ,  Wei Liu ,  Ying Zhu ,  Sachin Deshpande ,  Pranav Sheth ,  Hong Qiu

发明人： Tri Thanh Khuong ,  Junwei Bao ,  Jeffrey Alexander Chard ,  Wei Liu ,  Ying Zhu ,  Sachin Deshpande ,  Pranav Sheth ,  Hong Qiu

IPC分类号： G01B11/14 ,  G06F15/00

CPC分类号： G01B11/24 ,  G01N21/4788 ,  G01N21/95607 ,  G01N2021/95615 ,  G03F7/70625

摘要： In processing requests for wafer structure profile determination from optical metrology measurements, a plurality of measured diffraction signal of a plurality of structures formed on one or more wafers is obtained. The plurality of measured diffraction signals is distributed to a plurality of instances of a profile search module. The plurality of instances of the profile search model is activated in one or more processing threads of one or more computer systems. The plurality of measured diffraction signals is processed in parallel using the plurality of instances of the profile search module to determine profiles of the plurality of structures corresponding to the plurality of measured diffraction signals.

摘要翻译： 在从光学测量测量处理对晶片结构轮廓确定的请求中，获得了形成在一个或多个晶片上的多个结构的多个测量的衍射信号。 多个测量的衍射信号被分配到简档搜索模块的多个实例。 简档搜索模型的多个实例在一个或多个计算机系统的一个或多个处理线程中被激活。 使用轮廓搜索模块的多个实例来并行处理多个测量的衍射信号，以确定对应于多个测量的衍射信号的多个结构的轮廓。

公开(公告)号：US07765234B2

公开(公告)日：2010-07-27

申请号：US11580716

申请日：2006-10-12

申请人： Hong Qiu ,  Junwei Bao ,  Wei Liu ,  Jeffrey Alexander Chard ,  Miao Liu ,  Gang He ,  Hemalatha Erva ,  Vi Vuong

发明人： Hong Qiu ,  Junwei Bao ,  Wei Liu ,  Jeffrey Alexander Chard ,  Miao Liu ,  Gang He ,  Hemalatha Erva ,  Vi Vuong

IPC分类号： G06Q50/00

CPC分类号： G01N21/4788 ,  G01B11/24 ,  Y10S707/953

摘要： To manage data flow in generating different signal formats for use in optical metrology, a project data object is created. A first option data object is created. The first option data object has a set of signal parameters. Different settings of the set of signal parameters correspond to different signal formats for diffraction signals. A version number is associated with the first option data object. The first option data object is linked with the project data object. At least a second option data object is created. The second option data object has a set of signal parameters. Different settings of the set of signal parameters correspond to different signal formats for diffraction signals. The set of signal parameters of the first option data object and the set of signal parameters of the second option data object are set differently. Another version number is associated with the second option data object. The second option data object is linked with the project data object. The project data object, the first option data object, and the second option data object are stored. The version numbers associated with the first option data object and the second option data object are stored. The link between the first option data object and the project data object is stored. The link between the second option data object and the project data object is stored.

摘要翻译： 为了管理生成用于光学测量的不同信号格式的数据流，创建了一个项目数据对象。 创建第一个选项数据对象。 第一个选项数据对象具有一组信号参数。 信号参数组的不同设置对应于衍射信号的不同信号格式。 版本号与第一选项数据对象相关联。 第一个选项数据对象与项目数据对象链接。 至少创建第二个选项数据对象。 第二个选项数据对象具有一组信号参数。 信号参数组的不同设置对应于衍射信号的不同信号格式。 第一选项数据对象的信号参数集合和第二选项数据对象的信号参数集合设置不同。 另一个版本号与第二个选项数据对象相关联。 第二个选项数据对象与项目数据对象链接。 存储项目数据对象，第一选项数据对象和第二选项数据对象。 存储与第一选项数据对象和第二选项数据对象相关联的版本号。 存储第一个选项数据对象和项目数据对象之间的链接。 存储第二选项数据对象与项目数据对象之间的链接。

公开(公告)号：US07667858B2

公开(公告)日：2010-02-23

申请号：US11653061

申请日：2007-01-12

申请人： Jeffrey Alexander Chard ,  Junwei Bao ,  Manuel Madriaga

发明人： Jeffrey Alexander Chard ,  Junwei Bao ,  Manuel Madriaga

IPC分类号： G01B11/14

CPC分类号： H01L22/12 ,  G03F7/70625 ,  H01L2924/0002 ,  H01L2924/00

摘要： A process step in fabricating a structure on a wafer in a wafer application having one or more process steps and one or more process parameters is controlled by determining a correlation between a set of profile models and one or more key profile shape variables. Each profile model is defined using a set of profile parameters to characterize the shape of the structure. Different sets of profile parameters define the profile models in the set. The one or more key profile shape variables include one or more profile parameters or one or more process parameters. One profile model is selected from the set of profile models based on the correlation and a value of at least one key profile shape variable of the process of the wafer application to be used in fabricating the structure. The structure is fabricated in a first fabrication process cluster using the process step and the value of the at least one key profile shape variable. A measured diffraction signal is obtained off the structure. One or more profile parameters of the structure are determined based on the measured diffraction signal and the selected profile model. The one or more determined profile parameters are transmitted to the first fabrication process cluster or a second fabrication process cluster.

摘要翻译： 通过确定一组轮廓模型和一个或多个关键轮廓形状变量之间的相关性来控制在具有一个或多个处理步骤和一个或多个处理参数的晶片应用中制造晶片上的结构的工艺步骤。 使用一组轮廓参数来定义每个轮廓模型以表征结构的形状。 不同的配置参数集定义集合中的配置文件模型。 一个或多个关键轮廓形状变量包括一个或多个轮廓参数或一个或多个过程参数。 基于相关性和用于制造结构的晶片应用的处理的至少一个关键轮廓形状变量的值，从该组轮廓模型中选择一个轮廓模型。 该结构在第一制造工艺组中使用工艺步骤和至少一个关键型材形状变量的值来制造。 从该结构获得测量的衍射信号。 基于所测量的衍射信号和选择的轮廓模型来确定结构的一个或多个轮廓参数。 一个或多个确定的轮廓参数被传送到第一制造过程集群或第二制造过程集群。

公开(公告)号：US07596422B2

公开(公告)日：2009-09-29

申请号：US11653062

申请日：2007-01-12

申请人： Jeffrey Alexander Chard ,  Junwei Bao

发明人： Jeffrey Alexander Chard ,  Junwei Bao

IPC分类号： G06F19/00 ,  G01B9/00 ,  G01J4/00 ,  G01N21/55 ,  G01J3/00

CPC分类号： G01N23/20 ,  G03F7/70625 ,  H01L22/12

摘要： One or more profile parameters of a structure fabricated on a wafer in a wafer application are determined by developing a correlation between a set of profile models and one or more key profile shape variables. The wafer application has one or more process steps and one or more process parameters. Each profile model is defined using a set of profile parameters to characterize the shape of the structure. Different sets of profile parameters define the profile models in the set. The one or more key profile shape variables include one or more profile parameters or one or more process parameters. A value of at least one key profile shape variable of the process step of the wafer application to be used in fabricating the structure is determined. One profile model is selected from the set of profile models based on the determined correlation and the value of the at least one determined key profile shape variable. The structure is fabricated using the process step and the value of the at least one determined key profile shape variable determined. A measured diffraction signal off the fabricated structure is obtained. One or more profile parameters of the fabricated structure are determined based on the measured diffraction signal and the selected profile model.

摘要翻译： 通过在一组轮廓模型和一个或多个关键轮廓形状变量之间形成相关性来确定在晶片应用中在晶片上制造的结构的一个或多个轮廓参数。 晶片应用具有一个或多个工艺步骤和一个或多个工艺参数。 使用一组轮廓参数来定义每个轮廓模型以表征结构的形状。 不同的配置参数集定义集合中的配置文件模型。 一个或多个关键轮廓形状变量包括一个或多个轮廓参数或一个或多个过程参数。 确定要在制造结构中使用的晶片应用的处理步骤的至少一个关键轮廓形状变量的值。 基于所确定的相关性和至少一个确定的关键轮廓形状变量的值，从所述轮廓模型集中选择一个轮廓模型。 使用处理步骤和确定的至少一个确定的关键轮廓形状变量的值来制造该结构。 获得关于制造结构的测量的衍射信号。 基于所测量的衍射信号和选定的轮廓模型来确定所制造结构的一个或多个轮廓参数。