公开(公告)号：US20120251841A1

公开(公告)日：2012-10-04

申请号：US13515664

申请日：2010-12-16

申请人： John Edmund Southwell ,  Jigeng Xu ,  Kangtai Ren ,  Ken Dake ,  Sam East

发明人： John Edmund Southwell ,  Jigeng Xu ,  Kangtai Ren ,  Ken Dake ,  Sam East

IPC分类号： C07F5/02 ,  B29C35/08 ,  B32B9/00 ,  C08G59/02

CPC分类号： B33Y70/00 ,  B29C64/135 ,  B29C2033/0005 ,  B29C2035/0827 ,  B33Y10/00 ,  G03F7/0037 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/027 ,  G03F7/029 ,  G03F7/038 ,  Y10T428/31515

摘要： Liquid radiation curable resins for additive fabrication comprising an R-substituted aromatic thioetber triaryl sulfonmm tetrakis(pentafluorophenyl)borate cationic photoinitiator is disclosed. A process for using the liquid radiation curable resins for additive fabrication and three-dimensional articles made from the liquid radiation curable resins for additive fabrication are also disclosed.

摘要翻译： 公开了用于添加剂制造的液体辐射固化树脂，其包含R取代的芳族硫代三（三芳基磺基）四（五氟苯基）硼酸盐阳离子光引发剂。 还公开了使用用于添加剂制造的液体辐射固化树脂和由用于添加剂制造的液体辐射固化树脂制成的三维制品的方法。