公开(公告)号：US07011039B1

公开(公告)日：2006-03-14

申请号：US09611817

申请日：2000-07-07

申请人： Jonathan D. Mohn ,  John J. Helmsen ,  Michael Barnes

发明人： Jonathan D. Mohn ,  John J. Helmsen ,  Michael Barnes

IPC分类号： H01L21/00

CPC分类号： H01J37/32834 ,  H01J37/321 ,  H01J37/32477

摘要： A multi-purpose chamber that can be configured for a variety of processes, including deposition processes and etch processes, for example, by installing one or more removable chamber liners. The multi-purpose chamber provides uniform plasma confinement around a substrate disposed in the chamber for various processing conditions. The multi-purpose chamber also provides efficient and uniform exhaust of processing gas from the chamber.

摘要翻译： 可以例如通过安装一个或多个可拆卸的室衬套来配置用于各种工艺，包括沉积工艺和蚀刻工艺的多功能室。 多用途室在各种处理条件下，在设置在腔室中的基板周围提供均匀的等离子体约束。 多用途室还提供来自腔室的处理气体的高效均匀排气。