公开(公告)号：US08751976B2

公开(公告)日：2014-06-10

申请号：US13534300

申请日：2012-06-27

申请人： Cheng-Lung Tsai ,  Jui-Hsuan Feng ,  Sheng-Wen Lin ,  Wen-Li Cheng ,  Wen-Chun Huang ,  Ru-Gun Liu

发明人： Cheng-Lung Tsai ,  Jui-Hsuan Feng ,  Sheng-Wen Lin ,  Wen-Li Cheng ,  Wen-Chun Huang ,  Ru-Gun Liu

IPC分类号： G06F17/50

CPC分类号： G06F17/5081 ,  G06F17/5068

摘要： The present disclosure provides one embodiment of an integrated circuit (IC) method. The method includes building a pattern bank including a pattern having an area of interest. The method further includes recognizing that the pattern of the pattern bank corresponds to a pattern of an IC design layout. The method further includes identifying an area of interest of the pattern of the IC design layout that corresponds to the area of interest of the pattern of the pattern bank. The method further includes performing pattern recognition dissection on the area of interest of the pattern of the IC design layout to dissect the area of interest of the pattern of the IC design layout into a plurality of segments. The method further includes after performing pattern recognition dissection, producing a modified IC design layout.

摘要翻译： 本公开提供了集成电路（IC）方法的一个实施例。 该方法包括构建包括具有感兴趣区域的图案的图案库。 该方法还包括识别图案库的图案对应于IC设计布局的图案。 该方法还包括识别对应于图案库的图案的感兴趣区域的IC设计布局的图案的感兴趣区域。 该方法还包括在IC设计布局的图案的感兴趣区域上执行图案识别解剖，以将IC设计布局的图案的兴趣区域解剖为多个片段。 该方法还包括执行图案识别解剖之后，生成修改的IC设计布局。

公开(公告)号：US08631361B2

公开(公告)日：2014-01-14

申请号：US13482737

申请日：2012-05-29

申请人： Jui-Hsuan Feng

发明人： Jui-Hsuan Feng

IPC分类号： G06F17/50

CPC分类号： G06F17/5081 ,  G03F1/36 ,  G03F1/70 ,  G03F7/70441

摘要： The present disclosure provides one embodiment of an integrated circuit (IC) method. The method includes receiving an IC design layout having a pattern, assigning target points to segments of the pattern, and producing first a simulated contour of the pattern based on the assigned target points. The method further includes reassigning the target points to the segments of the pattern based on the first simulated contour of the pattern; producing a second simulated contour of the pattern based on the reassigned target points, and after producing the second simulated contour of the pattern, producing a modified IC design layout.

摘要翻译： 本公开提供了集成电路（IC）方法的一个实施例。 该方法包括接收具有图案的IC设计布局，将目标点分配给图案的片段，以及基于所分配的目标点首先产生图案的模拟轮廓。 该方法还包括基于图案的第一模拟轮廓将目标点重新分配到图案的段; 基于重新分配的目标点产生图案的第二模拟轮廓，并且在产生图案的第二模拟轮廓之后，产生修改的IC设计布局。

公开(公告)号：US20140007024A1

公开(公告)日：2014-01-02

申请号：US13534300

申请日：2012-06-27

申请人： Cheng-Lung Tsai ,  Jui-Hsuan Feng ,  Sheng-Wen Lin ,  Wen-Li Cheng ,  Wen-Chun Huang ,  Ru-Gun Liu

发明人： Cheng-Lung Tsai ,  Jui-Hsuan Feng ,  Sheng-Wen Lin ,  Wen-Li Cheng ,  Wen-Chun Huang ,  Ru-Gun Liu

IPC分类号： G06F17/50

CPC分类号： G06F17/5081 ,  G06F17/5068

摘要： The present disclosure provides one embodiment of an integrated circuit (IC) method. The method includes building a pattern bank including a pattern having an area of interest. The method further includes recognizing that the pattern of the pattern bank corresponds to a pattern of an IC design layout. The method further includes identifying an area of interest of the pattern of the IC design layout that corresponds to the area of interest of the pattern of the pattern bank. The method further includes performing pattern recognition dissection on the area of interest of the pattern of the IC design layout to dissect the area of interest of the pattern of the IC design layout into a plurality of segments. The method further includes after performing pattern recognition dissection, producing a modified IC design layout.

摘要翻译： 本公开提供了集成电路（IC）方法的一个实施例。 该方法包括构建包括具有感兴趣区域的图案的图案库。 该方法还包括识别图案库的图案对应于IC设计布局的图案。 该方法还包括识别对应于图案库的图案的感兴趣区域的IC设计布局的图案的感兴趣区域。 该方法还包括在IC设计布局的图案的感兴趣区域上执行图案识别解剖，以将IC设计布局的图案的兴趣区域解剖为多个片段。 该方法还包括执行图案识别解剖之后，生成修改的IC设计布局。

公开(公告)号：US20130326434A1

公开(公告)日：2013-12-05

申请号：US13482737

申请日：2012-05-29

申请人： Jui-Hsuan Feng

发明人： Jui-Hsuan Feng

IPC分类号： G06F17/50

CPC分类号： G06F17/5081 ,  G03F1/36 ,  G03F1/70 ,  G03F7/70441

摘要： The present disclosure provides one embodiment of an integrated circuit (IC) method. The method includes receiving an IC design layout having a pattern, assigning target points to segments of the pattern, and producing first a simulated contour of the pattern based on the assigned target points. The method further includes reassigning the target points to the segments of the pattern based on the first simulated contour of the pattern; producing a second simulated contour of the pattern based on the reassigned target points, and after producing the second simulated contour of the pattern, producing a modified IC design layout.

摘要翻译： 本公开提供了集成电路（IC）方法的一个实施例。 该方法包括接收具有图案的IC设计布局，将目标点分配给图案的片段，以及基于所分配的目标点首先产生图案的模拟轮廓。 该方法还包括基于图案的第一模拟轮廓将目标点重新分配到图案的段; 基于重新分配的目标点产生图案的第二模拟轮廓，并且在产生图案的第二模拟轮廓之后，产生修改的IC设计布局。