公开(公告)号：US5349860A

公开(公告)日：1994-09-27

申请号：US882455

申请日：1992-05-12

申请人： Tetsuo Nakano, deceased ,  Takeshige Katsumata ,  Megumu Tanaka ,  Isao Narushima ,  Yoshiharu Hirano ,  Kazuko Nakano

发明人： Tetsuo Nakano, deceased ,  Takeshige Katsumata ,  Megumu Tanaka ,  Isao Narushima ,  Yoshiharu Hirano ,  Kazuko Nakano

IPC分类号： G01N29/07 ,  G01N29/10

CPC分类号： G01N29/07 ,  G01N2291/02854 ,  G01N2291/044

摘要： An apparatus for measuring the thickness of a clad material having an outer mother metal and an inner clad metal. The apparatus includes a transmitter crystal and a receiver crystal of a double crystal angle-type probe which contact the outer surface of the mother metal, for receiving a first echo from the boundary surface of the mother metal and clad metal, and for receiving a second echo from the inner, bottom surface of the clad metal. The apparatus further includes an amplifier for amplifying the echo signals, a detector for detecting the zero-crossing points of the echoes, a zero point determining circuit, a calculator for calculating the periods from a zero point in time to the zero-crossing points, and a calculator for calculating the thickness of the clad material and clad metal based on the calculated periods.

摘要翻译： 一种用于测量具有外母金属和内包层金属的复合材料的厚度的装置。 该装置包括接触母金属外表面的双晶角型探针的发射晶体和接收晶体，用于从母金属和复合金属的边界面接收第一回波，并接收第二 从复合金属的内部，底部表面回波。 该装置还包括用于放大回波信号的放大器，用于检测回波的过零点的检测器，零点确定电路，用于计算从零点到过零点的周期的计算器， 以及用于基于计算的周期计算包层材料和复合金属的厚度的计算器。

公开(公告)号：US4127414A

公开(公告)日：1978-11-28

申请号：US804659

申请日：1977-06-08

申请人： Akira Yoshikawa ,  Haruo Nagai ,  Osamu Ochi ,  Kazuko Nakano ,  Yoshihiko Mizushima

发明人： Akira Yoshikawa ,  Haruo Nagai ,  Osamu Ochi ,  Kazuko Nakano ,  Yoshihiko Mizushima

IPC分类号： G03F1/54 ,  G03F7/004 ,  G03C1/76 ,  G03C1/00 ,  G03C5/00

CPC分类号： G03F1/54 ,  G03F7/0044

摘要： A pattern-forming material comprises a substrate and a radiation sensitive chalcogenide layer disposed thereon. The radiation sensitive chalcogenide layer consists of an amorphous layer having a chemical composition of 75 to 95 mol% of selenium and 5 to 25 mol% of germanium and a silver layer superimposed thereon. The pattern-forming materials having the radiation sensitive chalcogenide layer of the invention are particularly useful in lithographic applications.

摘要翻译： 图案形成材料包括基底和设置在其上的辐射敏感硫族化物层。 辐射敏感性硫族化物层由化学组成为75〜95摩尔％硒和5〜25摩尔％的锗和叠加在其上的银层构成。 具有本发明的辐射敏感硫族化物层的图案形成材料在光刻应用中特别有用。