公开(公告)号：US5696623A

公开(公告)日：1997-12-09

申请号：US216962

申请日：1994-03-24

申请人： Nobuo Fujie ,  Hitoshi Obara ,  Keiji Kuroiwa ,  Masaki Nakamura ,  Kazuya Watanabe ,  Takashi Aruga ,  Nobutaka Horii ,  Motokazu Suzuki ,  Tadahiro Hayashi

发明人： Nobuo Fujie ,  Hitoshi Obara ,  Keiji Kuroiwa ,  Masaki Nakamura ,  Kazuya Watanabe ,  Takashi Aruga ,  Nobutaka Horii ,  Motokazu Suzuki ,  Tadahiro Hayashi

IPC分类号： G02B13/14 ,  G03F7/20 ,  G03F7/00 ,  G02B27/00 ,  H01L21/30

CPC分类号： G03F7/70933 ,  G02B13/143 ,  G03F7/70058 ,  G03F7/70241 ,  G03F7/70883 ,  G03F7/70891 ,  Y10S359/90

摘要： In an ultraviolet exposure apparatus, substances contained in an atmosphere contacting a lens surface are reduced, the substances generating accumulations on the lens surface. Openings are formed in the wall of a lens barrel to allow the atmosphere to be replaced by a proper gas. The proper atmospheric gas may be a gas not containing oxygen such as a nitrogen gas, or clean air obtained by intentionally generating accumulations by applying ultraviolet light to source air. A ultraviolet light source is preferably cooled by a cooling system different from the cooling system of a lens optical system.

摘要翻译： 在紫外线曝光装置中，与透镜面接触的气氛中所含的物质减少，在透镜表面产生积聚的物质。 开口形成在镜筒的壁中，以允许气体被适当的气体代替。 适当的大气气体可以是不含氧的气体，例如氮气，或者是通过向源空气施加紫外线而有意地产生积聚而获得的清洁空气。 紫外光源优选通过与透镜光学系统的冷却系统不同的冷却系统来冷却。