公开(公告)号：US20080041415A1

公开(公告)日：2008-02-21

申请号：US11925611

申请日：2007-10-26

申请人： Alexandros Demos ,  Khaled Elsherf ,  Josphine Chang ,  Hichem M'saad

发明人： Alexandros Demos ,  Khaled Elsherf ,  Josphine Chang ,  Hichem M'saad

IPC分类号： B08B6/00

CPC分类号： B08B7/0035 ,  B82Y10/00 ,  B82Y40/00 ,  C23C16/4405 ,  C23C16/56 ,  H01J37/3174 ,  Y10S438/905

摘要： One embodiment of the present invention is a method for cleaning an electron beam treatment apparatus that includes: (a) generating an electron beam that energizes a cleaning gas in a chamber of the electron beam treatment apparatus; (b) monitoring an electron beam current; (c) adjusting a pressure of the cleaning gas to maintain the electron beam current at a substantially constant value; and (d) stopping when a predetermined condition has been reached.

摘要翻译： 本发明的一个实施例是一种清洗电子束处理装置的方法，其包括：（a）产生电子束，该电子束激励电子束处理装置的腔室中的清洁气体; （b）监测电子束电流; （c）调节清洁气体的压力以将电子束电流保持在基本恒定的值; 和（d）当达到预定条件时停止。