公开(公告)号：US20120247948A1

公开(公告)日：2012-10-04

申请号：US13510708

申请日：2010-11-19

申请人： Seung Yong Shin ,  Kyoung II Moon ,  Ju Hyun Sun ,  Chang Hun Lee ,  Jung Chan Bae

发明人： Seung Yong Shin ,  Kyoung II Moon ,  Ju Hyun Sun ,  Chang Hun Lee ,  Jung Chan Bae

IPC分类号： C23C14/14 ,  C22C1/00 ,  B22D23/06 ,  B22D27/02 ,  B22F3/12 ,  C23C14/34 ,  B22F1/00 ,  B82Y40/00

CPC分类号： C23C14/0036 ,  B22D7/005 ,  B22D21/00 ,  B22F2998/10 ,  C22C1/045 ,  C22C16/00 ,  C22C45/10 ,  C23C14/025 ,  C23C14/06 ,  C23C14/0688 ,  C23C14/3414 ,  B22F3/02 ,  B22F3/1035 ,  B22F9/082

摘要： The present invention relates to a sputtering target of a multi-component single body, a preparation method thereof, and a method for fabricating a multi-component alloy-based nanostructured thin film using the same. The sputtering target according to the present invention comprises an amorphous or partially crystallized glass-forming alloy system composed of a nitride forming metal element, which is capable of reacting with nitrogen to form a nitride, and a non-nitride forming element which has no or low solid solubility in the nitride forming metal element and does not react with nitrogen or has low reactivity with nitrogen, wherein the nitrogen forming metal element comprises at least one element selected from Ti, Zr, Hf, V, Nb, Ta, Cr, Y, Mo, W, Al, and Si, and the non-nitride forming element comprises at least one element selected from Mg, Ca, Sc, Ni, Cu, Ag, In, Sn, La, Au, and Pb.

摘要翻译： 本发明涉及多组分单体的溅射靶，其制备方法和使用其的多组分合金基纳米结构薄膜的制造方法。 根据本发明的溅射靶包括由氮化物形成金属元素组成的无定形或部分结晶的玻璃形成合金系统，该氮化物形成金属元素能够与氮反应以形成氮化物，以及非氮化物形成元件， 在氮化物形成金属元素中具有低固溶度并且不与氮反应或与氮具有低反应性，其中形成氮的金属元素包括选自Ti，Zr，Hf，V，Nb，Ta，Cr，Y中的至少一种元素 Mo，W，Al和Si，非氮化物形成元素包括选自Mg，Ca，Sc，Ni，Cu，Ag，In，Sn，La，Au和Pb中的至少一种元素。