公开(公告)号：US3961102A

公开(公告)日：1976-06-01

申请号：US505642

申请日：1974-09-13

申请人： Joseph M. Ballantyne ,  Chung L. Tang ,  Lawrence Bryce Rhodes ,  John J. Turner ,  Ji Liang Yang

发明人： Joseph M. Ballantyne ,  Chung L. Tang ,  Lawrence Bryce Rhodes ,  John J. Turner ,  Ji Liang Yang

IPC分类号： G02B5/18 ,  G03F7/00 ,  G03F7/20 ,  H01J37/305 ,  B05D3/06

CPC分类号： H01J37/3056 ,  G02B5/1857 ,  G03F7/001 ,  G03F7/2059

摘要： A method of making optical gratings by the use of a Scanning Electron Microscope wherein (1) a substrate having a thin film of electron resist thereon is exposed in adjacent areas by an electron dosage and the amount of such dosage and the depth of the thin film are selected such that energy deposition in regions between adjacent exposed areas in said electron resist is below the threshold sensitivity of said resist for development, (2) the development time of the resist is made an inverse function of the electron dosage, and/or (3) the period of the grating is controlled by use of a standard scanning format.

摘要翻译： 通过使用扫描电子显微镜制造光栅的方法，其中（1）具有其上的电子抗蚀剂薄膜的基底通过电子剂量暴露在相邻区域中，并且所述剂量的量和所述薄膜的深度 被选择为使得在所述电子抗蚀剂中的相邻曝光区域之间的区域中的能量沉积低于所述抗蚀剂显影的阈值灵敏度，（2）使抗蚀剂的显影时间成为电子用量的反函数，和/或（ 3）通过使用标准扫描格式控制光栅的周期。