公开(公告)号：US20050066882A1

公开(公告)日：2005-03-31

申请号：US10482178

申请日：2002-06-28

申请人： Jun-ichi Fujita ,  Masanhiko Ishida ,  Yukinori Ochiai ,  Shinji Matsui ,  Takashi Kaito

发明人： Jun-ichi Fujita ,  Masanhiko Ishida ,  Yukinori Ochiai ,  Shinji Matsui ,  Takashi Kaito

IPC分类号： C01B31/02 ,  B81C1/00 ,  C01B31/06 ,  C23C16/04 ,  C23C16/26 ,  C23C16/27 ,  C23C16/44 ,  C23C16/455 ,  C30B7/00 ,  C30B21/02 ,  C30B23/00 ,  C30B25/00 ,  C30B28/06 ,  C30B28/12 ,  C30B28/14

CPC分类号： C23C16/45517 ,  B81C1/00111 ,  C01B32/25 ,  C23C16/047 ,  C23C16/26 ,  C23C16/45591

摘要： A technique of forming an elastic DLC structure having ultra high strength by controlling an amount of focused ion beam current from 0.1 to 10 pA, and a growth rate in the range from 0.6 to 5 μm/min. and by using hydrocarbon gas such as phenanthrene (C14H10) and pyrene (C16H10), as source gas, in an apparatus having a gas nozzle for locally maintaining a higher partial gas pressure near the substrate and a structure for confining the gas on the substrate. In this manner, the elastic DLC having the ultra high strength can be obtained of which a hardness can be controlled in a relatively broader range.

摘要翻译： 通过控制聚焦离子束电流量为0.1〜10pA，生长速度为0.6〜5mum / min，形成具有超高强度的弹性DLC结构的技术。 并且通过使用诸如菲（C14H10）和芘（C16H10）的烃气体作为源气体，在具有用于在基板附近局部保持较高局部气体压力的气体喷嘴的装置和用于将气体限制在基板上的结构。 以这种方式，可以获得具有超高强度的弹性DLC，其可以在相对较宽的范围内控制硬度。