公开(公告)号：US20100265484A1

公开(公告)日：2010-10-21

申请号：US12809730

申请日：2008-12-22

申请人： Peter Gerhardus Wilhelmus Bussink ,  Anastasius Jacobus Anicetus Bruinsma ,  Hendricus Johannes Maria Meijer

发明人： Peter Gerhardus Wilhelmus Bussink ,  Anastasius Jacobus Anicetus Bruinsma ,  Hendricus Johannes Maria Meijer

IPC分类号： G03B27/72

CPC分类号： G03F9/7034 ,  G03F9/7003

摘要： A lithographic apparatus configured to project a patterned radiation beam onto a substrate. The apparatus includes a support configured to hold a patterned object, and a measurement system configured to detect orientations and/or densities of user area structures that are present on a user area of the patterned object.

摘要翻译： 一种光刻设备，被配置为将图案化的辐射束投影到基底上。 该装置包括被配置为保持图案化物体的支撑件和被配置为检测存在于图案化物体的用户区域上的用户区域结构的取向和/或密度的测量系统。

公开(公告)号：US08514368B2

公开(公告)日：2013-08-20

申请号：US12809730

申请日：2008-12-22

申请人： Peter Gerhardus Wilhelmus Bussink ,  Anastasius Jacobus Anicetus Bruinsma ,  Hendricus Johannes Maria Meijer

发明人： Peter Gerhardus Wilhelmus Bussink ,  Anastasius Jacobus Anicetus Bruinsma ,  Hendricus Johannes Maria Meijer

IPC分类号： G03B27/42 ,  G03B27/54

CPC分类号： G03F9/7034 ,  G03F9/7003

摘要： A lithographic apparatus configured to project a patterned radiation beam onto a substrate. The apparatus includes a support configured to hold a patterned object, and a measurement system configured to detect orientations and/or densities of user area structures that are present on a user area of the patterned object.

摘要翻译： 一种光刻设备，被配置为将图案化的辐射束投影到基底上。 该装置包括被配置为保持图案化物体的支撑件和被配置为检测存在于图案化物体的用户区域上的用户区域结构的取向和/或密度的测量系统。