公开(公告)号：US08419271B2

公开(公告)日：2013-04-16

申请号：US12789289

申请日：2010-05-27

申请人： Long-Sun Huang ,  Yu-Fu Ku ,  Yi-Kuang Yen ,  Shu Kuan ,  Kuang-Chong Wu ,  Shiming Lin ,  Ping-Yen Lin

发明人： Long-Sun Huang ,  Yu-Fu Ku ,  Yi-Kuang Yen ,  Shu Kuan ,  Kuang-Chong Wu ,  Shiming Lin ,  Ping-Yen Lin

IPC分类号： G01K7/16

CPC分类号： G01N29/022

摘要： A system for compensating a thermal effect is provided and includes a substrate structure and a microcantilever. The substrate structure includes a first piezoresistor. The first piezoresistor is buried in the substrate structure and has a first piezoresistance having a first relation to a first variable temperature. The microcantilever has the thermal effect and a second piezoresistance having a second relation to the first variable temperature, wherein the thermal effect is compensated based on the first and the second relations.

摘要翻译： 提供了用于补偿热效应的系统，并且包括衬底结构和微悬臂梁。 衬底结构包括第一压电电阻器。 第一压电电阻器被埋在衬底结构中，并且具有与第一可变温度具有第一关系的第一压电阻。 微悬臂梁具有热效应和与第一可变温度具有第二关系的第二压阻，其中基于第一和第二关系补偿热效应。

公开(公告)号：US20110158288A1

公开(公告)日：2011-06-30

申请号：US12789289

申请日：2010-05-27

申请人： Long-Sun Huang ,  Yu-Fu Ku ,  Yi-Kuang Yen ,  Shu Kuan ,  Kuang-Chong Wu ,  Shiming Lin ,  Ping-Yen Lin

发明人： Long-Sun Huang ,  Yu-Fu Ku ,  Yi-Kuang Yen ,  Shu Kuan ,  Kuang-Chong Wu ,  Shiming Lin ,  Ping-Yen Lin

IPC分类号： G01K7/16

CPC分类号： G01N29/022

摘要： A system for compensating a thermal effect is provided and includes a substrate structure and a microcantilever. The substrate structure includes a first piezoresistor. The first piezoresistor is buried in the substrate structure and has a first piezoresistance having a first relation to a first variable temperature. The microcantilever has the thermal effect and a second piezoresistance having a second relation to the first variable temperature, wherein the thermal effect is compensated based on the first and the second relations.

摘要翻译： 提供了用于补偿热效应的系统，并且包括衬底结构和微悬臂梁。 衬底结构包括第一压电电阻器。 第一压电电阻器被埋在衬底结构中，并且具有与第一可变温度具有第一关系的第一压电阻。 微悬臂梁具有热效应和与第一可变温度具有第二关系的第二压阻，其中基于第一和第二关系补偿热效应。