公开(公告)号：US06221538B1

公开(公告)日：2001-04-24

申请号：US09033049

申请日：1998-03-02

申请人： David Kerszykowski ,  Robert Dwayne Colclasure, Jr. ,  John Michael Garbayo ,  Raymond Leo Miller, Jr.

发明人： David Kerszykowski ,  Robert Dwayne Colclasure, Jr. ,  John Michael Garbayo ,  Raymond Leo Miller, Jr.

IPC分类号： G03F900

CPC分类号： G05B19/41865 ,  G03F1/00 ,  G05B2219/32258 ,  G05B2219/32283 ,  G05B2219/32298 ,  G05B2219/32315

摘要： A computer system (10) and method for automating manufacture of a photomask. The computer system (10) has a product database (21) that stores information used to manufacture the photomask. In addition, a semiconductor device is manufactured using the information stored in the product database (21). The information is transmitted to the product database (21) from semiconductor satellite systems such as a fabrication facility (14), a first mask shop (12), and a second mask shop (13). The computer system (10) chooses a mask shop for producing the photomask by using the information transmitted form the first mask shop (12) and the second mask shop (13).

摘要翻译： 一种用于自动制造光掩模的计算机系统（10）和方法。 计算机系统（10）具有存储用于制造光掩模的信息的产品数据库（21）。 此外，使用存储在产品数据库（21）中的信息制造半导体器件。 该信息从诸如制造设备（14），第一掩模车间（12）和第二掩模车间（13）的半导体卫星系统传送到产品数据库（21）。 计算机系统（10）通过使用从第一掩模车间（12）和第二掩模车间（13）传送的信息来选择制造光掩模的掩模车间。