公开(公告)号：US20050250347A1

公开(公告)日：2005-11-10

申请号：US11018641

申请日：2004-12-21

申请人： Christopher Bailey ,  Richard Hogle ,  Simon Purdon ,  Revati Pradhan-Kasmalkar ,  Aaron Sullivan ,  Qing Wang ,  Ce Ma

发明人： Christopher Bailey ,  Richard Hogle ,  Simon Purdon ,  Revati Pradhan-Kasmalkar ,  Aaron Sullivan ,  Qing Wang ,  Ce Ma

IPC分类号： C23C16/44 ,  C23C16/452 ,  C23C16/455 ,  H01J37/32 ,  H01L21/285 ,  H01L21/3065 ,  H01L21/44

CPC分类号： H01J37/3244 ,  C23C16/4405 ,  C23C16/4412 ,  H01J37/32844 ,  Y02C20/30 ,  Y02P70/605

摘要： A method and apparatus for introducing a fluorine-containing flow stream to a deposition process to maintain process by-product volatility and reduce or eliminate by-product formation and/or interference.

摘要翻译： 一种用于将含氟流动流引入沉积过程以维持过程副产物挥发性并减少或消除副产物形成和/或干扰的方法和设备。