公开(公告)号：US20120013831A1

公开(公告)日：2012-01-19

申请号：US13258492

申请日：2010-03-11

申请人： Owain Llyr Parri ,  Oleg Yaroshchuk ,  Ruslan Kravchuk

发明人： Owain Llyr Parri ,  Oleg Yaroshchuk ,  Ruslan Kravchuk

IPC分类号： G02F1/1335 ,  B29D11/00

CPC分类号： G02B5/3016 ,  B32B2305/55 ,  B32B2307/42 ,  B32B2310/0875 ,  G02F1/13378

摘要： The invention relates to a process of preparing a multilayer comprising two or more anisotropic layers with different optical axes by using a particle beam etching technique, to a multilayer obtained by said process, to the use of such a multilayer as optical compensator or retarder in optical and electrooptical devices, and to devices comprising such a multilayer.

摘要翻译： 本发明涉及一种通过使用粒子束蚀刻技术制备具有不同光轴的两个或更多个各向异性层的多层膜的方法，涉及通过所述方法获得的多层，使用这种多层膜作为光学补偿器或延迟器在光学 和电光器件，以及包括这种多层的器件。