公开(公告)号：US5019482A

公开(公告)日：1991-05-28

申请号：US228416

申请日：1988-08-05

申请人： Hideo Ai ,  Nobuhiko Suga ,  Satoshi Ogitani ,  Hideaki Takahashi ,  Akihiko Ikeda

发明人： Hideo Ai ,  Nobuhiko Suga ,  Satoshi Ogitani ,  Hideaki Takahashi ,  Akihiko Ikeda

IPC分类号： G03F7/031 ,  G03F7/032

CPC分类号： G03F7/032 ,  G03F7/031

摘要： A photosensitive composition comprising:(a) a polymer(b) 1 to 20% by weight, based on the weight of polymer (a), of a compound having a terminal ethylenically unsaturated group;(c) 0.1 to 20% by weight, based on the weight of polymer (a), of an oxime ester compound(d) 0.01 to 10% by weight, based on the weight of polymer (a), of a coumarin compound having a wave length of the absorption peak of 330 to 550 nm; has high photosensitivity to an actinic light of a wave length of 400 to 500 nm and is capable of forming heat-resistant images, patterns or films.

摘要翻译： 一种光敏组合物，其包含：（a）以聚合物（a）的重量计1至20重量％的具有末端烯属不饱和基团的化合物的聚合物（b） （c）以聚合物（a）的重量计，0.1〜20重量％的肟酯化合物（d），以聚合物（a）的重量计0.01〜10重量％的具有 330〜550nm的吸收峰的波长; 对波长400〜500nm的光化光具有高的光敏性，并且能够形成耐热图像，图案或膜。