公开(公告)号：US20100170441A1

公开(公告)日：2010-07-08

申请号：US12729973

申请日：2010-03-23

申请人： Seok-Jun Won ,  Yong-Min Yoo ,  Min-Woo Song ,  Dae-Youn Kim ,  Young-Hoon Kim ,  Weon-Hong Kim ,  Jung-Min Park ,  Sun-Mi Song

发明人： Seok-Jun Won ,  Yong-Min Yoo ,  Min-Woo Song ,  Dae-Youn Kim ,  Young-Hoon Kim ,  Weon-Hong Kim ,  Jung-Min Park ,  Sun-Mi Song

IPC分类号： H01L21/46

CPC分类号： C01G25/02 ,  C01G23/047 ,  C01G27/02 ,  C01G35/00 ,  C01P2006/40

摘要： In a method and an apparatus for forming metal oxide on a substrate, a source gas including metal precursor flows along a surface of the substrate to form a metal precursor layer on the substrate. An oxidizing gas including ozone flows along a surface of the metal precursor layer to oxidize the metal precursor layer so that the metal oxide is formed on the substrate. A radio frequency power is applied to the oxidizing gas flowing along the surface of the metal precursor layer to accelerate a reaction between the metal precursor layer and the oxidizing gas. Acceleration of the oxidation reaction may improve electrical characteristics and uniformity of the metal oxide.

摘要翻译： 在基板上形成金属氧化物的方法和装置中，包括金属前体的源气体沿着基板的表面流动，以在基板上形成金属前体层。 包括臭氧的氧化气体沿着金属前体层的表面流动，以氧化金属前体层，从而在基板上形成金属氧化物。 对沿着金属前体层的表面流动的氧化气体施加射频功率，以加速金属前体层与氧化气体的反应。 氧化反应的加速可以改善金属氧化物的电特性和均匀性。

公开(公告)号：US07708969B2

公开(公告)日：2010-05-04

申请号：US11775111

申请日：2007-07-09

申请人： Seok-Jun Won ,  Yong-Min Yoo ,  Min-Woo Song ,  Dae-Youn Kim ,  Young-Hoon Kim ,  Weon-Hong Kim ,  Jung-Min Park ,  Sun-Mi Song

发明人： Seok-Jun Won ,  Yong-Min Yoo ,  Min-Woo Song ,  Dae-Youn Kim ,  Young-Hoon Kim ,  Weon-Hong Kim ,  Jung-Min Park ,  Sun-Mi Song

IPC分类号： C01F17/00 ,  C25D17/00

CPC分类号： C01G25/02 ,  C01G23/047 ,  C01G27/02 ,  C01G35/00 ,  C01P2006/40

摘要： In a method and an apparatus for forming metal oxide on a substrate, a source gas including metal precursor flows along a surface of the substrate to form a metal precursor layer on the substrate. An oxidizing gas including ozone flows along a surface of the metal precursor layer to oxidize the metal precursor layer so that the metal oxide is formed on the substrate. A radio frequency power is applied to the oxidizing gas flowing along the surface of the metal precursor layer to accelerate a reaction between the metal precursor layer and the oxidizing gas. Acceleration of the oxidation reaction may improve electrical characteristics and uniformity of the metal oxide.

摘要翻译： 在基板上形成金属氧化物的方法和装置中，包括金属前体的源气体沿着基板的表面流动，以在基板上形成金属前体层。 包括臭氧的氧化气体沿着金属前体层的表面流动，以氧化金属前体层，从而在基板上形成金属氧化物。 对沿着金属前体层的表面流动的氧化气体施加射频功率，以加速金属前体层与氧化气体的反应。 氧化反应的加速可以改善金属氧化物的电特性和均匀性。

公开(公告)号：US20080056975A1

公开(公告)日：2008-03-06

申请号：US11775111

申请日：2007-07-09

申请人： Seok-Jun Won ,  Yong-Min Yoo ,  Min-woo Song ,  Dae-Youn Kim ,  Young-Hoon Kim ,  Weon-Hong Kim ,  Jung-Min Park ,  Sun-mi Song

发明人： Seok-Jun Won ,  Yong-Min Yoo ,  Min-woo Song ,  Dae-Youn Kim ,  Young-Hoon Kim ,  Weon-Hong Kim ,  Jung-Min Park ,  Sun-mi Song

IPC分类号： C01B13/14 ,  C25B1/00

CPC分类号： C01G25/02 ,  C01G23/047 ,  C01G27/02 ,  C01G35/00 ,  C01P2006/40

摘要： In a method and an apparatus for forming metal oxide on a substrate, a source gas including metal precursor flows along a surface of the substrate to form a metal precursor layer on the substrate. An oxidizing gas including ozone flows along a surface of the metal precursor layer to oxidize the metal precursor layer so that the metal oxide is formed on the substrate. A radio frequency power is applied to the oxidizing gas flowing along the surface of the metal precursor layer to accelerate a reaction between the metal precursor layer and the oxidizing gas. Acceleration of the oxidation reaction may improve electrical characteristics and uniformity of the metal oxide.

摘要翻译： 在基板上形成金属氧化物的方法和装置中，包括金属前体的源气体沿着基板的表面流动，以在基板上形成金属前体层。 包括臭氧的氧化气体沿着金属前体层的表面流动，以氧化金属前体层，从而在基板上形成金属氧化物。 对沿着金属前体层的表面流动的氧化气体施加射频功率，以加速金属前体层与氧化气体的反应。 氧化反应的加速可以改善金属氧化物的电特性和均匀性。