公开(公告)号：US20100121020A1

公开(公告)日：2010-05-13

申请号：US12531600

申请日：2008-03-18

申请人： Kenji Kunikata ,  Taihei Koumoto ,  Kenji Sekine

发明人： Kenji Kunikata ,  Taihei Koumoto ,  Kenji Sekine

IPC分类号： C08G73/22 ,  C07C205/23 ,  C07C215/80

CPC分类号： C08G73/22 ,  C07C215/74

摘要： The invention provides 3,3′-diamino-5,5′-diphenyl-4,4′-biphenyldiol which is useful as a monomer for a high-performance polymer, particularly a polymer satisfying performances highly required in the semiconductor field such as polybenzoxazole, polyimide or the like and 3,3′-dinitro-5,5′-diphenyl-4,4′-biphenyldiol as a raw material thereof. Also, the invention provides a polybenzoxazole having a repeating unit represented by the following formula (1): (wherein R is a bivalent dicarboxylic acid residue).

摘要翻译： 本发明提供3,3'-二氨基-5,5'-二苯基-4,4'-联苯二醇，其可用作高性能聚合物的单体，特别是满足在半导体领域中高度需要的性能的聚合物，例如聚苯并恶唑 ，聚酰亚胺等和3,3'-二硝基-5,5'-二苯基-4,4'-联苯二醇为原料。 另外，本发明提供具有下述式（1）表示的重复单元的聚苯并恶唑：（其中R为二价二羧酸残基）。