公开(公告)号：US20070277930A1

公开(公告)日：2007-12-06

申请号：US11663071

申请日：2005-09-14

申请人： Toshi Yokoyama ,  Seiji Katsuoka ,  Takahiro Ogawa ,  Kaoru Yamada ,  Kazuaki Maeda

发明人： Toshi Yokoyama ,  Seiji Katsuoka ,  Takahiro Ogawa ,  Kaoru Yamada ,  Kazuaki Maeda

IPC分类号： H01L21/304 ,  H01L21/683

CPC分类号： H01L21/67051 ,  H01L21/67207

摘要： A substrate cleaning apparatus does not need positioning of a transport system on start-up of the apparatus and can reduce the installation area of the apparatus. The substrate cleaning apparatus includes a base-integrated frame (1) in which are mounted a substrate transport device (2) for transporting a substrate, at least one substrate processing unit (3) for processing the substrate, a substrate loading port (5) for placing a substrate-housing cassette (4) on it, and a processing liquid supply apparatus (6) for supplying a processing liquid to the substrate processing unit, wherein maintenance of the substrate processing unit (3) can be performed from the backside of the apparatus.

摘要翻译： 基板清洗装置不需要在装置起动时定位运输系统，并且可以减少装置的安装面积。 基板清洗装置包括基底一体化框架（1），其中安装有用于输送基板的基板输送装置（2），用于处理基板的至少一个基板处理单元（3），基板装载口（5） 用于将衬底容纳盒（4）放置在其上，以及处理液体供应装置（6），用于向衬底处理单元提供处理液体，其中可以从衬底处理单元（3）的背面执行维护 该装置。