公开(公告)号：US6045969A

公开(公告)日：2000-04-04

申请号：US109909

申请日：1998-07-02

申请人： Eric Verschueren ,  Bavo Muys ,  Jan Dierckx ,  Jean Van Trier ,  Wim Cortens

发明人： Eric Verschueren ,  Bavo Muys ,  Jan Dierckx ,  Jean Van Trier ,  Wim Cortens

IPC分类号： B41N1/14 ,  B41N3/03 ,  G03C1/76

CPC分类号： B41N1/14 ,  B41N3/032

摘要： The present invention provides a method for obtaining a lithographic base comprising on a hydrophobic support a hydrophilic layer contiguous to said support containing a non-gelatinous hydrophilic (co)polymer or (co)polymer mixture, characterized in that said hydrophobic support is treated with a plasma treatment with an applied power density during the plasma treatment of at least 70 W min/m.sup.2 before applying to said support said hydrophilic layer.

摘要翻译： 本发明提供了一种获得平版印刷基底的方法，其在疏水性载体上包含邻近所述载体的亲水层，所述亲水层含有非凝胶状亲水（共）聚合物或（共）聚合物混合物，其特征在于所述疏水性载体用 在等离子体处理期间施加功率密度至少为70W /分钟的等离子体处理，然后施加到所述支撑体上的所述亲水层。