公开(公告)号：US20160056198A1

公开(公告)日：2016-02-25

申请号：US14830181

申请日：2015-08-19

申请人： Seungwook LEE ,  Jungchak AHN ,  Youngwoo JUNG

发明人： Seungwook LEE ,  Jungchak AHN ,  Youngwoo JUNG

IPC分类号： H01L27/146

CPC分类号： H01L27/14614 ,  H01L27/14603 ,  H01L27/14612 ,  H01L27/1463 ,  H01L27/14636 ,  H01L27/1464 ,  H01L27/14641 ,  H01L27/14645 ,  H01L27/14689 ,  H01L29/4236

摘要： A complementary metal-oxide-semiconductor (CMOS) image sensor is provided. The CMOS image sensor may include an epitaxial layer having a first conductivity type and having first and second surfaces, a first device isolation layer extending from the first surface to the second surface to define first and second pixel regions, a well impurity layer of a second conductivity type formed adjacent to the first surface and formed in the epitaxial layer of each of the first and second pixel regions, and a second device isolation layer formed in the well impurity layer in each of the first and second pixel regions to define first and second active portions spaced apart from each other in each of the first and second pixel regions.

摘要翻译： 提供了互补的金属氧化物半导体（CMOS）图像传感器。 CMOS图像传感器可以包括具有第一导电类型并具有第一和第二表面的外延层，从第一表面延伸到第二表面以限定第一和第二像素区域的第一器件隔离层，第二和第二表面的阱杂质层 导电类型，形成在第一表面附近并形成在第一和第二像素区域中的每一个的外延层中，以及第二器件隔离层，形成在第一和第二像素区域中的每一个中的阱杂质层中，以限定第一和第二像素区域 在第一和第二像素区域中的每一个中彼此间隔开的有源部分。