公开(公告)号：US4601577A

公开(公告)日：1986-07-22

申请号：US534119

申请日：1983-09-20

申请人： Yukihiro Gotou ,  Etsuji Suzuki

发明人： Yukihiro Gotou ,  Etsuji Suzuki

IPC分类号： G01N21/956 ,  G01N21/47

CPC分类号： G01N21/956

摘要： A method and apparatus for detecting defects in a pattern are disclosed. The defect detecting method is comprised of a step of dark-field illuminating a patterned object with a directionality and a step for detecting only the defect component by erasing the pattern component in a pattern image formed by the dark-field illumination. The apparatus comprises an illuminating device for dark-field illuminating a patterned object with parallel rays, an image pick-up device for picking up a pattern image, which is disposed just above the pattern, and a data processing circuit for processing the picked up image signal to detect a defect.

摘要翻译： 公开了一种用于检测图案中的缺陷的方法和装置。 缺陷检测方法包括：通过消除由暗场照明形成的图案图像中的图案分量来仅仅检测缺陷分量的方向性和步骤的暗场照射图案化物体的步骤。 该装置包括用于以平行光线对图案化物体进行暗场照明的照明装置，用于拾取图案的正上方的图案图像的图像拾取装置，以及用于处理拾取图像的数据处理电路 信号来检测缺陷。