公开(公告)号：US20140307246A1

公开(公告)日：2014-10-16

申请号：US14357514

申请日：2013-05-31

申请人： ASML HOLDING N.V. ,  ASML NETHERLANDS B.V.

发明人： Mark Josef Schuster ,  Santiago E Del Puerto ,  Daniel Nathan Burbank ,  Duncan Walter Bromley ,  Franciscus Godefridus Casper Bijnen

IPC分类号： G03F7/20

CPC分类号： G03F7/70775 ,  G03F1/14 ,  G03F1/142 ,  G03F1/38 ,  G03F7/707 ,  G03F7/70708 ,  G03F7/70783 ,  G03F7/7085

摘要： Position and curvature information of a patterning device may be determined directly from the patterning device and controlled based on the determined information. In an embodiment, a lithographic apparatus includes a position determining system operative to determine a relative position of the patterning device. The patterning device may be configured to create a patterned radiation beam from a radiation beam incident on a major surface of the patterning device. The patterning device may have a side surface having an edge in common with the major surface. The position determining system may include an interferometer operative to transmit light to the side surface and to receive the transmitted light after the transmitted light has been reflected at the side surface. The position determining system is operative to determine a quantity representative of the relative position of the patterning device from the received reflected transmitted light.

摘要翻译： 图案形成装置的位置和曲率信息可以直接从图案形成装置确定并基于所确定的信息进行控制。 在一个实施例中，光刻设备包括位置确定系统，其可操作以确定图案形成装置的相对位置。 图案形成装置可以被配置为从入射在图案形成装置的主表面上的辐射束产生图案化的辐射束。 图案形成装置可以具有与主表面共同的边缘的侧表面。 位置确定系统可以包括干涉仪，其操作以将光透射到侧表面，并且在透射光已经在侧表面被反射之后接收透射光。 位置确定系统用于确定代表图案形成装置相对于所接收的反射透射光的相对位置的量。