公开(公告)号：US20070278429A9

公开(公告)日：2007-12-06

申请号：US10703923

申请日：2003-11-07

申请人： Alan Taylor ,  Christopher Barnett ,  David Klug ,  Ian Mercer

发明人： Alan Taylor ,  Christopher Barnett ,  David Klug ,  Ian Mercer

IPC分类号： G01J3/10

CPC分类号： H05G2/003 ,  B82Y10/00 ,  G03F7/70033 ,  H05G2/008

摘要： A high energy photon source for generating EUV radiation comprises a nozzle emitting a supersonic stream of source material, a laser or electrical/magnetic pre-ionization mechanism and a laser or electrical/magnetic excitation mechanism and a skimmer plate between them providing a collimated high density beam of source material for excitation.

摘要翻译： 用于产生EUV辐射的高能量光子源包括发射源材料的超音速流的喷嘴，激光或电/磁预电离机构以及激光或电/磁激发机构和它们之间的撇膜板，提供准直的高密度 用于激发的源材料束。

公开(公告)号：US20060017023A1

公开(公告)日：2006-01-26

申请号：US10703923

申请日：2003-11-07

申请人： Alan Taylor ,  Christopher Barnett ,  David Klug ,  Ian Mercer

发明人： Alan Taylor ,  Christopher Barnett ,  David Klug ,  Ian Mercer

IPC分类号： G01J3/10

CPC分类号： H05G2/003 ,  B82Y10/00 ,  G03F7/70033 ,  H05G2/008

摘要： A high energy photon source for generating EUV radiation comprises a nozzle emitting a supersonic stream of source material, a laser or electrical/magnetic pre-ionization mechanism and a laser or electrical/magnetic excitation mechanism and a skimmer plate between them providing a collimated high density beam of source material for excitation.

摘要翻译： 用于产生EUV辐射的高能量光子源包括发射源材料的超音速流的喷嘴，激光或电/磁预电离机构以及激光或电/磁激发机构和它们之间的撇膜板，提供准直的高密度 用于激发的源材料束。