公开(公告)号：US20020128388A1

公开(公告)日：2002-09-12

申请号：US10076846

申请日：2002-02-14

Applicant: AlliedSignal Inc.

Inventor： Joseph Kennedy ,  Teresa Baldwin ,  Nigel P. Hacker ,  Richard Spear

IPC: C08F008/00

CPC classification number: G03F7/091 ,  C03C17/008 ,  C03C17/30 ,  C08K5/0008 ,  C09D183/04 ,  C09D183/06 ,  C09D183/08 ,  G03F7/0752 ,  H01L21/0276 ,  Y10T428/31663 ,  C08L83/04 ,  C08L2666/28

Abstract: Anti-reflective coating materials for deep ultraviolet photolithography include one or more organic light-absorbing compounds incorporated into spin-on-glass materials. Suitable absorbing compounds are strongly absorbing over wavelength ranges around wavelengths such as 365 nm, 248 nm, and 193 nm that may be used in photolithography. A method of making absorbing spin-on-glass materials includes combining one or more organic absorbing compounds with alkoxysilane or halosilane reactants during synthesis of the spin-on-glass materials.

Abstract translation: 用于深紫外光刻的抗反射涂层材料包括掺入旋涂玻璃材料中的一种或多种有机光吸收化合物。 合适的吸收化合物在可用于光刻的诸如365nm，248nm和193nm的波长附近的波长范围上是强吸收的。 制造吸收旋涂玻璃材料的方法包括在旋涂玻璃材料的合成期间将一种或多种有机吸收化合物与烷氧基硅烷或卤代硅烷反应物组合。