公开(公告)号：US06508979B1

公开(公告)日：2003-01-21

申请号：US09608634

申请日：2000-06-30

申请人： Aristides A. G. Requicha ,  Bruce E. Koel ,  Roland Resch ,  Diana Lewis ,  Mark E. Thompson

发明人： Aristides A. G. Requicha ,  Bruce E. Koel ,  Roland Resch ,  Diana Lewis ,  Mark E. Thompson

IPC分类号： B22F702

CPC分类号： B82Y40/00 ,  B29C41/006 ,  B29C64/153 ,  B82B3/00 ,  B82Y30/00 ,  Y10S977/712 ,  Y10S977/84 ,  Y10S977/847 ,  Y10S977/888 ,  Y10S977/89

摘要： A method for fabricating or prototyping a nanoscale object is disclosed. The method includes defining a sequence of nanolayers that represent the nanoscale object, constructing a current nanolayer on a first surface, and depositing a sacrificial layer to cover the first surface but not the nanolayer. The nanolayer represents a slice of the nanoscale object. The nanolayer and the sacrificial layer provide a second surface on which a next nanolayer is constructed. The above construction and deposition steps are repeated if the next nanolayer is not the last nanolayer. The method also includes removing the sacrificial layers to produce the nanoscale object.

摘要翻译： 公开了一种用于制造或原型制造纳米尺度物体的方法。 该方法包括定义表示纳米尺度物体的纳米层序列，在第一表面上构建当前的纳米层，以及沉积牺牲层以覆盖第一表面而不是纳米层。 纳米层代表纳米级物体的切片。 纳米层和牺牲层提供构建下一个纳米层的第二表面。 如果下一个纳米层不是最后一个纳米层，则重复上述结构和沉积步骤。 该方法还包括去除牺牲层以产生纳米级物体。