公开(公告)号：US20060138349A1

公开(公告)日：2006-06-29

申请号：US11020567

申请日：2004-12-27

申请人： Arno Bleeker ,  Johannes Jacobus Baselmans ,  Marce Mathijs Dierichs ,  Stanislav Smirnov ,  Christian Wagner ,  Lev Ryzhikov ,  Kars Troost

发明人： Arno Bleeker ,  Johannes Jacobus Baselmans ,  Marce Mathijs Dierichs ,  Stanislav Smirnov ,  Christian Wagner ,  Lev Ryzhikov ,  Kars Troost

IPC分类号： G03F7/20

CPC分类号： G03F7/702 ,  G03F7/70291

摘要： A system and method are used to direct a radiation beam to illuminate non-perpendicularly a patterning array of individually controllable elements used for patterning the radiation beam. The individually controllable elements can change a telecentricity of the radiation beam. Projection of the radiation beam onto the individually controllable elements can be by a concave mirror or use a folding mirror placed in an object field of the individually controllable elements. Alternatively, the individually controllable elements can change the optical axis of the radiation beam.

摘要翻译： 系统和方法用于引导辐射束非垂直地照射用于图案化辐射束的单独可控元件的构图阵列。 可单独控制的元件可以改变辐射束的远心性。 将辐射束投射到可独立控制的元件上可以通过凹面镜或使用放置在单独可控元件的物场中的折叠镜。 或者，独立可控元件可以改变辐射束的光轴。