公开(公告)号：US20130196019A1

公开(公告)日：2013-08-01

申请号：US13583369

申请日：2011-03-17

申请人： C. Grant Willson ,  Christopher M. Bates ,  Jeffrey Strahan ,  Christopher John Ellison ,  Brennen Mueller

发明人： C. Grant Willson ,  Christopher M. Bates ,  Jeffrey Strahan ,  Christopher John Ellison ,  Brennen Mueller

IPC分类号： B05D3/10 ,  H01L21/02

CPC分类号： B05D3/107 ,  G03F7/0758 ,  G03F7/16 ,  G03F7/165 ,  G03F7/2051 ,  H01L21/02

摘要： The present invention describes the synthesis of silicon-containing monomers and copolymers. The synthesis of a monomer, trimethyl-(2-methylenebut-3-enyl)silane (TMSI) and subsequent synthesis of diblock copolymer with styrene, forming polystyrene-block-polytrimethylsilyl isoprene, and synthesis of diblock copolymer Polystyrene-block-polymethacryloxymethyltrimethylsilane or PS-b-P(MTMSMA). These silicon containing diblock copolymers have a variety of uses. One preferred application is as novel imprint template material with sub-100 nm features for lithography.

摘要翻译： 本发明描述了含硅单体和共聚物的合成。 合成单体，三甲基 - （2-甲基丁烯-3-烯基）硅烷（TMSI），随后与苯乙烯合成二嵌段共聚物，形成聚苯乙烯嵌段聚三甲基甲硅烷基异戊二烯，合成二嵌段共聚物聚苯乙烯嵌段聚甲基丙烯酰氧甲基三甲基硅烷或PS -bP（MTMSMA）。 这些含硅二嵌段共聚物具有多种用途。 一个优选的应用是作为新颖的印模模板材料，具有用于光刻的亚100nm特征。