公开(公告)号：US20100155256A1

公开(公告)日：2010-06-24

申请号：US12704137

申请日：2010-02-11

申请人： Ching-An Huang ,  Chun-Ching Hsu ,  Ui-Wei Leu

发明人： Ching-An Huang ,  Chun-Ching Hsu ,  Ui-Wei Leu

IPC分类号： C25D5/34

CPC分类号： C25D3/06 ,  C25D5/34

摘要： A trivalent chromium electroplating solution in accordance with the present invention contains at least one trivalent chromium salt for electroplating a chromium coating layer on a workpiece. By using the low toxic trivalent chromium to substitute highly toxic hexavalent chromium, an electroplating process of the present trivalent chromium electroplating solution has less pollution.

摘要翻译： 根据本发明的三价铬电镀溶液含有至少一种用于在工件上电镀铬涂层的三价铬盐。 通过使用低毒三价铬代替高毒六价铬，本发明的三价铬电镀溶液的电镀工艺污染较少。