公开(公告)号：US20230213863A1

公开(公告)日：2023-07-06

申请号：US18090313

申请日：2022-12-28

申请人： DONGJIN SEMICHEM CO., LTD.

发明人： Young Bae LIM ,  Hyun Jin KIM ,  Jong Won KIM ,  Ji Hyun KIM ,  Bo Lyong KIM ,  Kun Hee KIM ,  Eun Jeong CHO ,  Seung Mook LEE ,  Sang Hoon CHANG

IPC分类号： G03F7/09 ,  C08F112/32

CPC分类号： G03F7/092 ,  C08F112/32

摘要： A compound with enhanced etching resistance, gap-filling properties, and heat resistance includes a repeating unit represented by Formula 1.