公开(公告)号：US20080274369A1

公开(公告)日：2008-11-06

申请号：US11911954

申请日：2005-04-21

申请人： Eal H. Lee ,  Nicola Truong ,  Robert Prater ,  Morales Diana

发明人： Eal H. Lee ,  Nicola Truong ,  Robert Prater ,  Morales Diana

IPC分类号： B32B15/00 ,  C22C5/04 ,  B32B9/00 ,  C23C14/34

CPC分类号： C22C5/04 ,  B32B15/018 ,  C23C14/0036 ,  C23C14/0641 ,  C23C14/165 ,  C23C14/3414 ,  C23C14/58 ,  H01L21/28079 ,  H01L21/28088 ,  H01L21/2855 ,  H01L21/76843 ,  H01L21/76846 ,  H01L21/76873 ,  H01L29/495 ,  H01L29/4966 ,  H01L2924/0002 ,  Y10T428/1266 ,  Y10T428/12806 ,  Y10T428/12819 ,  Y10T428/12826 ,  Y10T428/1284 ,  H01L2924/00

摘要： An alloy for use in vapor deposition or atomic layer deposition is described herein that includes ruthenium and at least one element from group IV, V or VI of the Periodic Chart of the Elements or a combination thereof. In addition, a layered material is described herein that comprises at least one layer that includes a ruthenium-based material or ruthenium-based alloy and at least one layer that includes at least one element from group IV, V or VI of the Periodic Chart of the Elements or a combination thereof.

摘要翻译： 本文描述了用于气相沉积或原子层沉积的合金，其包括钌和元素周期图的IV，V或VI族中的至少一种元素或其组合。 此外，本文描述的层状材料包括至少一层包括钌基材料或钌基合金的层，以及至少一层，其包括至少一种元素周期表IV，V或VI族元素 元素或其组合。