公开(公告)号：US20040121704A1

公开(公告)日：2004-06-24

申请号：US10700984

申请日：2003-11-04

Applicant: Ebara Technologies Incorporated

Inventor： Kunihiko Sakurai ,  Gerard Moloney ,  Huey-Ming Wang ,  Jun Liu ,  Peter Lao

IPC: B24B049/00 ,  B24B051/00

CPC classification number: B24B37/30 ,  B24B47/22

Abstract: The invention provides a vertically adjustable chemical mechanical polishing head having a pivot mechanism and method for use thereof.

Abstract translation: 本发明提供了一种具有枢转机构和方法的可垂直调节的化学机械抛光头。