公开(公告)号：US20140168620A1

公开(公告)日：2014-06-19

申请号：US14103486

申请日：2013-12-11

申请人： Emil Peter SCHMITT-WEAVER ,  Paul Frank Luehrmann ,  Wolfgang Henke ,  Marc Jurian Kea

发明人： Emil Peter SCHMITT-WEAVER ,  Paul Frank Luehrmann ,  Wolfgang Henke ,  Marc Jurian Kea

IPC分类号： G03F7/20

CPC分类号： G03F7/70516

摘要： A lithography tool is calibrated using a calibration substrate having a set of first marks distributed across its surface in a known pattern. The tool is operated to apply a pattern comprising a plurality of second marks at various positions on the substrate, each second mark overlying one of the first marks and being subject to an overlay error dependent on an apparatus-specific deviation. The second marks are applied by multiple exposures while the substrate remains loaded in the tool. An operating parameter of the apparatus is varied between the exposures. An overlay error is measured and used to calculate parameter-specific, apparatus-specific calibration data based on knowledge of the parameter variation used for each exposure.

摘要翻译： 使用具有以已知图案分布在其表面上的一组第一标记的校准基板校准光刻工具。 操作该工具以在衬底上的各个位置上施加包括多个第二标记的图案，每个第二标记覆盖第一标记中的一个并且受到依赖于设备特异性偏差的覆盖误差。 当衬底保持加载在工具中时，通过多次曝光施加第二标记。 该装置的操作参数在曝光之间变化。 测量覆盖误差，并用于根据每次曝光所用参数变化的知识来计算特定于设备的校准数据。