公开(公告)号：US20140370643A1

公开(公告)日：2014-12-18

申请号：US14240075

申请日：2012-08-22

申请人： Eric Stern ,  Bradley M. West ,  Jason Criscione

发明人： Eric Stern ,  Bradley M. West ,  Jason Criscione

IPC分类号： H01L31/0236 ,  C09K13/08

CPC分类号： H01L31/02366 ,  C09K13/08 ,  H01L31/02363 ,  Y02E10/50

摘要： Acid etch compositions for etching multicrystalline silicon substrates are disclosed which may include hydrofluoric acid, an oxidizer, an acid diluent, and soluble silicon. The soluble silicon may be hexafluorosilicic acid or ammonium fluorosilicate. Silicon substrates patterned with organic resist may be used with the acid etch compositions for selective silicon patterning for solar cell applications.

摘要翻译： 公开了用于蚀刻多晶硅衬底的酸蚀组合物，其可以包括氢氟酸，氧化剂，酸稀释剂和可溶性硅。 可溶性硅可以是六氟硅酸或氟硅酸铵。 用有机抗蚀剂图案化的硅衬底可以与用于太阳能电池应用的选择性硅图案化的酸蚀组合物一起使用。