公开(公告)号：US20070178704A1

公开(公告)日：2007-08-02

申请号：US11343219

申请日：2006-01-31

申请人： Erik Loopstra ,  Bernardus Luttikhuis ,  Herman Van Der Schoot ,  Fransicus Jacobs

发明人： Erik Loopstra ,  Bernardus Luttikhuis ,  Herman Van Der Schoot ,  Fransicus Jacobs

IPC分类号： H01L21/302

CPC分类号： G03F7/707

摘要： The invention provides a lithographic apparatus including an illumination system configured to condition a radiation beam, a patterning device support constructed to support a transmissive patterning device, the patterning device being capable of imparting the radiation beam with a pattern in its cross-section to form a patterned radiation beam, a substrate table constructed to hold a substrate, and a projection system configured to project the patterned radiation beam onto a target portion of the substrate, wherein the patterning device support is configured to hold a patterning device and wherein the lithographic apparatus includes a clamping device, the clamping device being configured to clamp the patterning device at the top side.

摘要翻译： 本发明提供一种光刻设备，其包括配置成调节辐射束的照明系统，构造成支撑透射式图案形成装置的图案形成装置支撑件，所述图案形成装置能够在其横截面上赋予辐射束图案以形成 图案化的辐射束，构造成保持衬底的衬底台，以及被配置为将图案化的辐射束投影到衬底的目标部分上的投影系统，其中，图案形成装置支撑件构造成保持图案形成装置，并且其中光刻装置包括 夹持装置，夹持装置构造成将图案形成装置夹在顶侧。