公开(公告)号：US5558971A

公开(公告)日：1996-09-24

申请号：US407611

申请日：1995-03-21

申请人： Fumiyoshi Urano ,  Takaai Negishi ,  Akiko Katsuyama ,  Masayuki Endo

发明人： Fumiyoshi Urano ,  Takaai Negishi ,  Akiko Katsuyama ,  Masayuki Endo

IPC分类号： G03F7/004 ,  G03F7/30

CPC分类号： G03F7/0045 ,  Y10S430/11

摘要： A resist material comprising (a) a terpolymer, (b) a photoacid generator, and (c) a solvent has high light sensitivity, heat resistance, adhesiveness, resolution, etc., and is suitable for forming a pattern of rectangular shape.

摘要翻译： 抗蚀剂材料包括（a）三元共聚物，（b）光致酸发生剂和（c）溶剂具有高的光敏性，耐热性，粘合性，分辨率等，并且适于形成矩形图案。