公开(公告)号：US20150287176A1

公开(公告)日：2015-10-08

申请号：US14243528

申请日：2014-04-02

Applicant: GLOBALFOUNDRIES Inc.

Inventor： Tamer COSKUN ,  Yi ZOU

IPC: G06T7/00

CPC classification number: G03F7/70433

Abstract: A method and apparatus for hybrid test pattern generation for optical proximity correction (OPC) model calibration is disclosed. Embodiments may include receiving a mask pattern of a chip layout, extracting one or more patterns from the mask pattern, determining one or more parametric data sets for the one or more patterns, retrieving one or more calibration parametric data sets based on one or more other mask patterns, determining a difference between the one or more parametric data sets and the one or more calibration parametric data sets, and adding the one or more parametric data sets to the one or more calibration parametric data sets if the difference satisfies a threshold value.

Abstract translation: 公开了一种用于光学邻近校正（OPC）模型校准的混合测试图案生成的方法和装置。 实施例可以包括接收芯片布局的掩模图案，从掩模图案中提取一个或多个图案，确定一个或多个图案的一个或多个参数数据集，基于一个或多个其他的方法检索一个或多个校准参数数据集 确定所述一个或多个参数数据集与所述一个或多个校准参数数据集之间的差异，以及如果所述差满足阈值，则将所述一个或多个参数数据集加到所述一个或多个校准参数数据集中。