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发明授权
Method for preventing and cleaning ruthenium-containing deposits in a CVD apparatus 有权
标题翻译：在CVD装置中防止和清洁含钌沉积物的方法

公开(公告)号：US07107998B2

公开(公告)日：2006-09-19

申请号：US10687318

申请日：2003-10-16

申请人： Harold F. R. Greer , James A. Fair , Junghwan Sung , Nerissa Sue Draeger

发明人： Harold F. R. Greer , James A. Fair , Junghwan Sung , Nerissa Sue Draeger

IPC分类号： B08B9/00 , C23F4/00

CPC分类号： C23G5/00 , C23C16/16 , C23C16/4405

摘要： Carbon monoxide gas is provided in a ruthenium-deposition apparatus to clean undesired ruthenium-containing deposits from apparatus surfaces. Carbon monoxide gas is mixed with reactant gases in apparatus tubing and in a ruthenium-deposition reaction chamber to inhibit formation of undesired ruthenium deposits on apparatus surfaces and to remove ruthenium deposits.

摘要翻译： 在钌沉积设备中提供一氧化碳气体以从设备表面清洁不需要的含钌沉积物。一氧化碳气体与设备管道和钌沉积反应室中的反应气体混合，以抑制在设备表面上形成不需要的钌沉积物并除去钌沉积物。