公开(公告)号：US20150093912A1

公开(公告)日：2015-04-02

申请号：US14039809

申请日：2013-09-27

申请人： Hengpeng WU ,  Jian YIN ,  Guanyang LIN ,  JiHoon KIM ,  Jianhui SHAN

发明人： Hengpeng WU ,  Jian YIN ,  Guanyang LIN ,  JiHoon KIM ,  Jianhui SHAN

IPC分类号： H01L21/02

CPC分类号： H01L21/02118 ,  C08F220/14 ,  C08F220/40 ,  G03F7/00 ,  H01L21/02282 ,  C08F212/08

摘要： Disclosed herein is a formulation for depositing a cured underlayer for promoting the formation of self assembled structures. The underlayer comprises: (a) a polymer comprising at least one pendant vinyl ether monomer repeat unit having the structure, (I): wherein R is chosen from H, C1-C4 alkyl, or halogen, and W is a divalent group chosen from C1-C6 alkylene, C6-C20 arylene, benzylene, or C2-C20 alkyleneoxyalkylene; (ii) optional thermal acid generator; and (c) a solvent. The invention also relates to processes of forming a pattern using the underlayer.

摘要翻译： 本文公开了一种用于沉积固化的底层以促进自组装结构的形成的制剂。 底层包括：（a）包含至少一种具有以下结构的侧链乙烯基醚单体重复单元的聚合物：（I）：其中R选自H，C 1 -C 4烷基或卤素，W是选自 C1-C6亚烷基，C6-C20亚芳基，亚苄基或C2-C20亚烷基氧亚烷基; （ii）可选的热酸发生器; 和（c）溶剂。 本发明还涉及使用底层形成图案的工艺。