公开(公告)号：US20090263743A1

公开(公告)日：2009-10-22

申请号：US12496232

申请日：2009-07-01

申请人： Hikaru MOMOSE ,  Atsushi Ootake ,  Akifumi Ueda ,  Tadayuki Fujiwara ,  Masaru Takeshita ,  Ryotaro Hayashi ,  Takeshi Iwai

发明人： Hikaru MOMOSE ,  Atsushi Ootake ,  Akifumi Ueda ,  Tadayuki Fujiwara ,  Masaru Takeshita ,  Ryotaro Hayashi ,  Takeshi Iwai

IPC分类号： G03F7/20 ,  C08F24/00 ,  C08F10/00 ,  G03F7/004

CPC分类号： C08F220/28 ,  G03F7/0397 ,  Y10S430/111

摘要： The resist polymer of the present invention comprises a specific constitutional unit having a cyano group, a constitutional unit having an acid-dissociable group, and a specific constitutional unit having a lactone skeleton. When the above polymer is used as a resist resin in DUV excimer laser lithography or electron beam lithography, it exhibits high sensitivity and high resolution, and provides a good resist pattern shape, having a small degree of occurrence of line edge roughness or generation of microgels.

摘要翻译： 本发明的抗蚀剂聚合物包含具有氰基的特定结构单元，具有酸解离基的结构单元和具有内酯骨架的特定结构单元。 当在DUV准分子激光光刻或电子束光刻中使用上述聚合物作为抗蚀剂树脂时，其表现出高灵敏度和高分辨率，并且提供良好的抗蚀剂图案形状，线边缘粗糙度的发生程度小或微凝胶的产生 。