公开(公告)号：US20150371825A1

公开(公告)日：2015-12-24

申请号：US14627022

申请日：2015-02-20

申请人： Hitachi High-Technologies Corporation

发明人： Hiroyuki Kobayashi ,  Makoto Nawata ,  Hikaru Koyama ,  Kazuyuki Ikenaga

IPC分类号： H01J37/32 ,  C23C16/44 ,  C23C16/455 ,  C23C16/50

CPC分类号： C23C16/45565 ,  H01J37/32192 ,  H01J37/32211 ,  H01J37/32477 ,  H01J37/32623

摘要： A plasma processing apparatus in which high frequency power to generate plasma supplied from a high frequency power supply is introduced into a processing chamber via a top plate and a shower plate and a member to be processed mounted on a stage electrode is processed, wherein a grounded spacer whose base material is a metal is installed between the shower. plate and an inner cylinder.

摘要翻译： 一种等离子体处理装置，其中将从高频电源供应的产生等离子体的高频功率通过顶板和喷淋板引导到处理室中，并处理安装在载物台电极上的待加工构件，其中接地 基座材料为金属的间隔件安装在淋浴间之间。 板和内筒。