公开(公告)号：US5569571A

公开(公告)日：1996-10-29

申请号：US472702

申请日：1995-06-06

申请人： Ik-Cheol Lim ,  Su-Yeon Cho ,  Seung-Joon Yoo

发明人： Ik-Cheol Lim ,  Su-Yeon Cho ,  Seung-Joon Yoo

IPC分类号： G03F7/00 ,  G03F7/26 ,  H01J9/227 ,  H01J29/32 ,  G03C5/00

CPC分类号： H01J29/327 ,  G03F7/0007 ,  G03F7/26 ,  H01J9/2278

摘要： A process for preparing a black matrix comprising the steps of producing a developed substrate by coating, drying, exposing and developing a photoresist on the inside of a substrate, producing a dried substrate by drying the developed substrate several times, coating a dye on the dried substrate and then drying the board, coating graphite on the dried substrate, and etching the graphite-coated substrate. This method makes it possible to perfectly etch the black matrix dot and increase volatility in fluorescent coating.

摘要翻译： 一种制备黑色矩阵的方法，包括以下步骤：通过在基材的内部涂覆，干燥，曝光和显影光致抗蚀剂来生产显影的基底，通过干燥显影的基底几次来制备干燥的基底，在干燥的 底物，然后干燥板，在干燥的基材上涂覆石墨，并蚀刻石墨涂覆的基材。 该方法使得可以完美地蚀刻黑色矩阵点并增加荧光涂层的挥发性。