公开(公告)号：US20160249416A1

公开(公告)日：2016-08-25

申请号：US15027343

申请日：2014-10-06

申请人： Itzhak CHAIMOV ,  Ronen COHEN ,  Ben ZICKEL ,  Maksim BEREZIN ,  Coby MARON ,  Amir BURNSTEIN

发明人： Ram ELBOIM ,  Itzhak CHAIMOV ,  Ronen COHEN ,  Ben ZICKEL ,  Maksim BEREZIN ,  Coby MARON ,  Amir BURNSTEIN

IPC分类号： H05B6/64 ,  H05B6/72 ,  H05B6/68

CPC分类号： H05B6/6447 ,  H05B6/6438 ,  H05B6/645 ,  H05B6/68 ,  H05B6/686 ,  H05B6/705 ,  H05B6/72 ,  H05B6/76 ,  H05B2206/044 ,  Y02B40/143 ,  Y02B40/146

摘要： A disclosed apparatus for sensing and processing an object in a cavity (104) comprises a sensing RF source (110) and a sensing antenna (112), and a processing RF source (120) and a processing antenna (122). The sensing RF source is configured to generate low power RF radiation at a first frequency range and the sensing antenna is configured to feed the cavity with RF radiation generated by the low power RF source. The processing RF source is configured to generate high power RF radiation at a second frequency range, and the processing antenna is configured to feed the cavity with RF radiation generated by the processing RF source. A protecting system (130) configured to protect the sensing RF source from RF radiation generated by the processing RF source may be provided.

摘要翻译： 用于感测和处理空腔（104）中的物体的公开的装置包括感测RF源（110）和感测天线（112），以及处理RF源（120）和处理天线（122）。 感测RF源被配置为在第一频率范围内产生低功率RF辐射，并且感测天线被配置为用低功率RF源产生的RF辐射馈送空腔。 处理RF源被配置为在第二频率范围产生高功率RF辐射，并且处理天线被配置为用由RF处理RF产生的RF辐射馈送空腔。 可以提供被配置为保护感测RF源免受由处理RF源产生的RF辐射的保护系统（130）。

公开(公告)号：US20160095171A1

公开(公告)日：2016-03-31

申请号：US14892744

申请日：2014-05-21

申请人： Itzhak CHAIMOV ,  Avner LIBMAN

发明人： Itzhak CHAIMOV ,  Avner LIBMAN

IPC分类号： H05B6/68 ,  H05B6/66

CPC分类号： H05B6/68 ,  H05B6/6447 ,  H05B6/6452 ,  H05B6/6455 ,  H05B6/6458 ,  H05B6/664 ,  H05B6/686 ,  H05B6/705 ,  H05B6/72 ,  Y02B40/143

摘要： Apparatuses and methods are provided for processing an object in a cavity. The apparatuses include at least one radio frequency (RF) energy supply component configured to supply RF energy for application to one or more radiating elements configured to emit RF radiation in response to the applied RF energy. In some embodiments, a provided apparatus also includes a memory storing a set of coefficients associated with the RF energy supply component; and a processor configured to receive feedback in response to emission of RF radiation by the one or more radiating elements and control application of RF energy to one or more of the radiating elements based on the feedback and the set of coefficients.

摘要翻译： 提供了用于处理空腔中的物体的装置和方法。 这些设备包括至少一个射频（RF）能量供应部件，其被配置为向应用于被配置为响应于施加的RF能量发射RF辐射的一个或多个辐射元件提供RF能量。 在一些实施例中，所提供的装置还包括存储与RF能量供应部件相关联的一组系数的存储器; 以及处理器，被配置为响应于所述一个或多个辐射元件的RF辐射的发射而接收反馈，并且基于所述反馈和所述一组系数来控制对所述辐射元件中的一个或多个辐射元件的RF能量的应用。