公开(公告)号：US06859328B2

公开(公告)日：2005-02-22

申请号：US10201652

申请日：2002-07-22

申请人： Jörg Schultz ,  Johannes Wangler ,  Karl-Hein Schuster ,  Udo Dinger ,  Wolfgang Singer ,  Martin Antoni ,  Hans-Juergen Mann ,  Wilhelm Ulrich

发明人： Jörg Schultz ,  Johannes Wangler ,  Karl-Hein Schuster ,  Udo Dinger ,  Wolfgang Singer ,  Martin Antoni ,  Hans-Juergen Mann ,  Wilhelm Ulrich

IPC分类号： G02B17/06 ,  G03F7/20 ,  G21K1/06 ,  G21K5/00 ,  G21K5/04 ,  G02B27/14 ,  G02B5/30 ,  G02B17/00

CPC分类号： B82Y10/00 ,  G02B17/0657 ,  G03F7/70075 ,  G03F7/70083 ,  G03F7/70108 ,  G03F7/70166 ,  G03F7/702 ,  G03F7/70233 ,  G03F7/70358 ,  G03F7/708 ,  G21K1/06 ,  G21K1/062

摘要： A projection exposure apparatus for microlithography using a wavelength≦193 nm, includes (A) a primary light source, (B) an illumination system having (1) an image plane, (2) a plurality of raster elements for receiving light from the primary light source, and (3) a field mirror for receiving the light from the plurality of raster elements and for forming an arc-shaped field having a plurality of field points in the image plane, and (C) a projection objective. The illumination system has a principle ray associated with each of the plurality of field points thus defining a plurality of principle rays. The plurality of principle rays run divergently into the projection objective.

摘要翻译： 使用波长<= 193nm的用于微光刻的投影曝光装置包括（A）主光源，（B）具有（1）像平面的照明系统，（2）多个光栅元件，用于接收来自 初级光源，以及（3）用于接收来自所述多个光栅元件的光并用于形成在所述像平面中具有多个场点的弧形场的场反射镜，以及（C）投影物镜。 照明系统具有与多个场点中的每一个相关联的原理射线，从而限定多个原则射线。 多个原始光线分散地投射到投影物镜中。