公开(公告)号：US08420124B2

公开(公告)日：2013-04-16

申请号：US11825469

申请日：2007-07-06

申请人： Joseph M. DeSimone ,  Jason P. Rolland ,  Benjamin W. Maynor ,  Larkin E. Euliss ,  Ginger Denison Rothrock ,  Ansley E. Dennis ,  Edward T. Samulski ,  R. Jude Samulski

发明人： Joseph M. DeSimone ,  Jason P. Rolland ,  Benjamin W. Maynor ,  Larkin E. Euliss ,  Ginger Denison Rothrock ,  Ansley E. Dennis ,  Edward T. Samulski ,  R. Jude Samulski

IPC分类号： A61K9/50 ,  A61K9/00

CPC分类号： A61K9/14 ,  A61K9/0097 ,  A61K9/5138 ,  A61K9/5153 ,  A61K9/5192 ,  A61K47/34 ,  B81C99/0085 ,  B82Y10/00 ,  B82Y40/00 ,  G03F7/0002 ,  H01L51/0004 ,  H01L51/0021 ,  Y10T428/24273 ,  Y10T428/24479 ,  Y10T428/3154

摘要： The presently disclosed subject matter describes the use of fluorinated elastomer-based materials, in particular perfluoropolyether (PFPE)-based materials, in high-resolution soft or imprint lithographic applications, such as micro- and nanoscale replica molding, and the first nano-contact molding of organic materials to generate high fidelity features using an elastomeric mold. Accordingly, the presently disclosed subject matter describes a method for producing free-standing, isolated nanostructures of any shape using soft or imprint lithography technique.

摘要翻译： 目前公开的主题描述了基于氟化弹性体的材料，特别是基于全氟聚醚（PFPE）的材料在高分辨率软或压印光刻应用中的应用，例如微米和纳米级复制成型，以及第一纳米接触 使用弹性体模具成型有机材料以产生高保真特征。 因此，目前公开的主题描述了使用软或压印光刻技术生产任何形状的独立的，分离的纳米结构的方法。